高純金中雜質元素含量檢測儀

摘要：高純金純度管控離不開精準的雜質元素分析，GB/T25934.1-2010《高純金化學分析方法 第 1 部分：乙酸乙酯萃取分離-ICP-AES 法測定雜質元素的含量》是國內 99.999% 高純金雜質檢測重要國家標準。深圳市天創美科技有限公司 MICS 全譜直讀電感耦合等離子體發射光譜儀（ICP-OES），可匹配該標準乙酸乙酯萃取前處理流程，完成銀、鋁、砷、鉍、鎘、鉻、銅、鐵、銥、鎂、錳、鎳、鉛、鈀、鉑、銠、銻、硒、碲、鈦、鋅等多類痕量雜質元素定量檢測，滿足黃金冶煉、貴金屬質檢、有色金屬實驗室高純金樣品分析需求。

一、高純金雜質檢測行業背景

高純金廣泛應用于電子半導體、貴金屬精煉、造幣、新材料等領域，材料品質直接由雜質元素含量決定，99.999% 高純金需要對二十余種痕量雜質開展精準測定。GB/T25934.1-2010 標準采用混合酸溶解試樣，鹽酸介質下乙酸乙酯萃取分離基體金，水相濃縮后使用 ICP 光譜設備測定雜質元素譜線強度，以此計算各雜質元素質量分數，測定范圍覆蓋 0.00002%-0.00100% 區間多元素。

該標準對儀器的檢出限、光譜分辨率、長期穩定性、多元素同步檢測能力提出較高要求。傳統設備容易出現光譜干擾、檢出限不足、維護繁瑣等問題，難以穩定滿足高純金痕量雜質分析。MICS 全譜直讀 ICP-OES 針對無機痕量元素分析場景開發，能夠很好適配乙酸乙酯萃取分離前處理后的高純金待測液測試，助力實驗室落實國標檢測流程。

二、MICS 全譜直讀型 ICP-OES 產品概述

ICP-OES MICS 觀測全譜直讀型電感耦合等離子體發射光譜儀，是深圳市天創美科技有限公司廠家直供的依托多年光譜儀器研發積淀推出新一代 ICP-OES 產品。設備搭載集成固態射頻電源、恒溫二維分光系統、科研級制冷防溢出 CCD 檢測系統，配套自研光譜校正技術，實現小型化、便捷化、智能化的光譜分析，日常操作與維護簡單，適配各類理化實驗室分析作業。

ICP-OES（電感耦合等離子體發射光譜儀）作為無機元素分析主流儀器，具備光譜干擾小、分析速度快、穩定性優異的特點，可完成樣品元素定性、半定量、精確定量，檢出限可達十億分之一級別。儀器應用場景覆蓋環境保護、食品安全、地質礦產、冶金有色金屬、稀土、化工、醫藥、石油、半導體、農業研究，可測定樣品中常量、微量、痕量元素含量。

在貴金屬檢測領域，儀器配合乙酸乙酯萃取分離前處理，可直接用于高純金樣品中 Ag、Al、As、Bi、Cd、Cr、Cu、Fe、Ir、Mg、Mn、Ni、Pb、Pd、Pt、Rh、Sb、Se、Te、Ti、Zn 共 21 種雜質元素檢測，匹配 GB/T25934.1-2010 標準測試要求。

三、儀器核心性能特點

1、等離子體系統安全智能，保障高純樣品穩定測試

1）安全可靠固態射頻電源：體積小巧，輸出效率高，功率輸出穩定，集成水路、氣路、過載多重安全保護，降低儀器故障概率，提升設備運行安全性。 2）全自動點火及自動匹配技術：軟件一鍵全自動點火，參數自動調整匹配，點火成功率高，簡化實驗操作。 3）智能化火焰監測：配置高靈敏度光纖傳感器，實時監控等離子火焰狀態，異常熄火自動關停儀器；搭載全彩色等離子攝像系統，軟件端可視化觀察等離子體運行狀態，可直觀查看炬管、中心管結垢情況，便于及時維護。

2、分離式進樣系統，適配萃取后復雜基體試液

采用霧室-炬管分體式分離進樣架構，規避炬管高溫對霧化效率帶來的波動影響；加長型霧室強化氣液分離，降低水蒸氣干擾。配備十五轉子五通道全自動蠕動泵，轉速連續可調，支持在線樣品稀釋、在線添加內標，滿足高純金萃取后試液特殊分析需求。 炬管支持快速拆卸，配套工裝工具實現一秒炬管定位，保障炬管與線圈同心位置，消除更換炬管帶來的信號偏移；可按需選配有機、高鹽、耐 HF 酸霧化器、霧室組件，適配各類貴金屬前處理樣品。 氣路采用高精度 MFC 質量流量控制器，等離子氣、輔助氣、載氣精準可控，保障測試數據重復性；具備缺氣報警保護，氣源耗盡自動熄火，蜂鳴告警保護硬件。

3、精密恒溫光學系統，降低高純痕量測試背景干擾

采用中階梯光柵 + 棱鏡交叉色散二維分光結構，光學部件無移動構件，光室恒溫 36℃±0.1℃密封控溫，氬氣吹掃，大幅提升光學系統長期穩定性。光路焦距 440mm，全反射成像，波長覆蓋 165-900nm 全波段；雜散光控制優異，200nm 處光學分辨率≤0.007nm，有效降低高純金痕量雜質檢測背景噪聲。 開機軟件自動完成波長校正，無需專門校正溶液，減少人為操作誤差，適合大批量高純金樣品分析。

4、科研級防溢出 CCD 檢測器，高低含量元素同步測量

自主研發百萬像素級三級半導體制冷 CCD 檢測器，制冷溫度-45℃，啟動時間小于 3 分鐘。像素級背泄式防溢出保護，消除譜線飽和溢出問題，解決高純基體下高低濃度元素同時測定難題。檢測器無化學涂膜，規避涂層老化損耗，延長檢測器使用壽命。信號-背景同步智能積分，拓寬動態范圍，高低含量雜質元素可一次曝光同時采集。

5、功能完備分析軟件，滿足國標分析數據處理需求

圖形化可視化操作界面，支持定性、半定量、定量全套分析模式；內置 75000 條以上譜線庫，可自由挑選分析譜線，完整全譜采集，便于排查光譜干擾。集成外標法、內標法、IEC 干擾校正系數法、標準加入法，適配 GB/T25934.1 標準工作曲線繪制、空白扣除、雜質元素結果計算。 具備儀器全部件狀態監控、等離子視頻監控；可選審計追蹤、多級用戶權限、操作日志記錄，測試結果支持局域網自動上傳至指定電腦，適合第三方檢測、質檢實驗室規范化管理。

四、MICS 全譜直讀 ICP-OES 關鍵技術指標

1、進樣系統

· 加長型霧室，低記憶效應，降低背景噪聲；高效同心圓霧化器，霧化效率高，記憶效應弱；

· 快速拆卸炬管，工裝輔助一秒定位；5 通道 16 滾軸全自動蠕動泵，支持進樣、排廢、在線內標同步運行；

· 分腔體式進樣系統，炬管、霧室物理隔離，實時觀察進樣狀態；多類型*組件可選，適配有機、高鹽、耐樣品；

· 多路氣體采用 MFC 質量流量控制器，精度 0.01L/min；缺氣自動熄火蜂鳴報警；火焰視頻可視化監測。

2、等離子體系統

· 垂直炬管觀測方式；全數字固態射頻電源，功率 500-1600W，1W 連續可調，功率穩定性≤0.01%；

· 自動調諧快速匹配，水冷散熱；具備智能濃度衰減，最高衰減 100 倍，寬濃度梯度樣品無需手動稀釋；

· 射頻頻率＞27.12MHz，頻率穩定性≤0.01%。

3、光學系統

· 中階梯光柵-棱鏡交叉色散，無光機移動部件；密封恒溫光室 36℃±0.1℃，氬氣吹掃；

· 焦距 440mm 全反射光路，波長范圍 165-900nm；點火自動譜線校正；

· 雜散光≤2.0mg/L（10000mg/L Ca 溶液 As 188.980nm 測定）；200nm 光學分辨率≤0.007nm。

4、檢測系統

· 三級 TEC 半導體制冷 CCD 檢測器，制冷-45℃，啟動＜3min；像素級背泄防溢出；

· 信號背景同步采集，寬動態范圍；檢測器無化學涂膜；百萬像素以上。

5、整機性能指標

· 分析速度：每分鐘≥50 個元素 / 譜線，單次曝光可同時測量近 70 種元素；

· 樣品消耗量＜2mL；線性動態范圍≥10?；支持內標同步曝光校正；

· 精密度：1ppm/10ppm 多元素混合標液，10 次重復 RSD≤0.5%；

· 長時間穩定性 RSD＜1.0%；典型元素檢出限可達 0.1μg/L。

五、在高純金 GB/T25934.1 標準檢測中的應用說明

按照 GB/T25934.1-2010 標準流程，高純金試樣經混合酸消解、乙酸乙酯萃取分離除去金基體，合并水相后濃縮定容，得到待測試液。將試液導入 MICS ICP-OES，儀器測量各雜質元素對應譜線強度，軟件扣除空白，調用工作曲線得到待測元素濃度，代入標準公式計算雜質元素質量分數，結果可直接導出，完成銀、鋁、砷、鉍、鎘、鉻、銅、鐵、銥、鎂、錳、鎳、鉛、鈀、鉑、銠、銻、硒、碲、鈦、鋅多元素測定。

備注：儀器僅提供光譜檢測能力，樣品前處理（酸溶、乙酸乙酯萃取分離等）需要實驗室按照國標方法完成；本文參數僅作科普參考，最終交付標準以采購合同為準。

六、適用行業與應用方向

1. 黃金冶煉、貴金屬精煉企業：高純金出廠雜質質控檢測；

2. 計量院、質檢院、第三方貴金屬檢測實驗室：依據 GB/T25934 系列標準開展高純金檢測；

3. 造幣、有色金屬研究院：貴金屬新材料研發分析；

4. 半導體、電子材料企業：高純金原料痕量雜質驗收分析。

七、結語

高純金的痕量雜質檢測對儀器靈敏度、抗干擾能力、多元素同步分析能力提出嚴苛要求。深圳市天創美科技 MICS 全譜直讀 ICP-OES 電感耦合等離子體發射光譜儀，硬件性能、軟件功能可以很好匹配 GB/T25934.1-2010 乙酸乙酯萃取分離-ICP 光譜法的檢測儀器需求，幫助貴金屬分析實驗室高效、穩定完成高純金中二十余種雜質元素定量分析，同時可兼顧地質、環境、化工等多領域無機元素檢測，實現一機多用。

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